Alle producten
220V / 50Hz Plasma Polijstmachine Hoogprecisie Industriële Polijstapparatuur
Stroomvoorziening: | 220V/50Hz |
---|---|
Plasmabehandelingstijd: | 3 tot 10 minuten |
Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
Plasmapoetser 500W Plasmabehandelingsmachine Laag energieverbruik
Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
---|---|
Plasmagas: | Argon |
Temperatuur van de plasmabehandeling: | Kamertemperatuur |
RF-generator Plasma Polijstmachine PLC-besturing Hoogprecisie Polijstmachine
Plasmagas: | Argon |
---|---|
Plasmabron: | rf-generator |
Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
Argongas- en RF-generator Plasma-afwerkingssysteem 500 W industriële polijstmachine
Model: | PP001 |
---|---|
Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
Energieverbruik: | 500 W |
220V / 50Hz Plasmapoetsapparatuur Hoogprecisie Plasma Finishing System
Het tarief van de gasstroom: | 0-100 Sccm |
---|---|
Temperatuur van de plasmabehandeling: | Kamertemperatuur |
Plasmabehandelingstijd: | 3 tot 10 minuten |
PLC-besturing Plasma Polijstmachine 50Hz Quartz Plasma Etsen en Polijsten Machine
Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
---|---|
Stroomvoorziening: | 220V/50Hz |
Controlesysteem: | Touch screenplc controle |
ISO9001 0.1 Pa - 1.0 Pa Plasma slijpmachine Aanpasbaar Plasma Poliesysteem
Energieverbruik: | 500 kW |
---|---|
Model: | PP001 |
Plasmabron: | rf-generator |
High Precision Plasma Finishing System met Quartz Chamber oppervlakte raffinage machine
Energieverbruik: | 500 W |
---|---|
Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
Uniformiteit van de plasmabehandeling: | ± 5% |
Touch Screen PLC Control Plasma High Precision Grinding Machine 500W Gebruikersvriendelijk
Temperatuur van de plasmabehandeling: | Kamertemperatuur |
---|---|
Controlesysteem: | Touch screenplc controle |
Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
RF-generator Plasma Polijstmachine 220V Metalen oppervlak Polijstmachine ISO9001
Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
---|---|
Grootte van de plasmakamer: | 300 mm x 300 mm x 300 mm |
Plasmabron: | rf-generator |