Alle producten
ISO9001 goedgekeurde plasmapolishermachine 500 kW voor oppervlakteverontreinigende stoffen en onzuiverheden
Energieverbruik: | 500 kW |
---|---|
Stroomvoorziening: | 220V/50Hz |
Controlesysteem: | Touch screenplc controle |
ISO9001 0.1 Pa - 1.0 Pa Plasma slijpmachine Aanpasbaar Plasma Poliesysteem
Energieverbruik: | 500 kW |
---|---|
Model: | PP001 |
Plasmabron: | rf-generator |
Waterdamp Plasmapoetsmachine 220V Poetsmachine voor het metaaloppervlak
Plasmagas: | waterdamp |
---|---|
Stroomvoorziening: | 220V/50Hz |
Energieverbruik: | 500 kW |
220V / 50Hz Plasmapoetsapparatuur Hoogprecisie Plasma Finishing System
Het tarief van de gasstroom: | 0-100 Sccm |
---|---|
Temperatuur van de plasmabehandeling: | Kamertemperatuur |
Plasmabehandelingstijd: | 3 tot 10 minuten |
PLC-besturing Plasma Polijstmachine 50Hz Quartz Plasma Etsen en Polijsten Machine
Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
---|---|
Stroomvoorziening: | 220V/50Hz |
Controlesysteem: | Touch screenplc controle |
Kwartsplasmapoetsapparatuur 220V / 50Hz voor behandeling bij kamertemperatuur
Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
---|---|
Controlesysteem: | Touch screenplc controle |
Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
Precise Plasma Polishing Machine Quartz Chamber Industrial Metal Polishing Equipment
Plasmabehandelingstijd: | 3-5 minuten |
---|---|
Stroomvoorziening: | 220V/50Hz |
Temperatuur van de plasmabehandeling: | Kamertemperatuur |
Touch Screen PLC Control Plasma High Precision Grinding Machine 500W Gebruikersvriendelijk
Temperatuur van de plasmabehandeling: | Kamertemperatuur |
---|---|
Controlesysteem: | Touch screenplc controle |
Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
Precise Plasma Etching And Polishing Machine 500W Plasma Polishing Equipment
Controlesysteem: | Touch screenplc controle |
---|---|
Het tarief van de gasstroom: | 0-100 Sccm |
Grootte van de plasmakamer: | 300 mm x 300 mm x 300 mm |
High Precision Plasma Finishing System met Quartz Chamber oppervlakte raffinage machine
Energieverbruik: | 500 W |
---|---|
Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
Uniformiteit van de plasmabehandeling: | ± 5% |